The Effect of Pressure on the Microstructural Behavior on SnO2 Thin Films Deposited by RF Sputtering | AVESİS

Bilecik Şeyh Edebali Üniversitesi Akademik Veri Yönetim Sistemi

The Effect of Pressure on the Microstructural Behavior on SnO2 Thin Films Deposited by RF Sputtering

Atıf İçin Kopyala

GÜLER M. O., ALAF M., ALP A., AKBULUT H.

ASME 2. Annual Multifunctional NanocompositesNanomaterials: International ConferenceExhibition, 11 - 13 Ocak 2008, (Tam Metin Bildiri)

Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
Doi Numarası: 10.1115/mn2008-47071
Bilecik Şeyh Edebali Üniversitesi Adresli: Hayır